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专利名称：化学机械抛光装置专利类型：实用新型专利发明人：张海龙,靳爱军,王红艳申请号：CN201420630427.5申请日：20141029公开号：CN204277741U公开日：20150422
摘要：本实用新型涉及一种化学机械抛光装置，包括压板和抛光层，所述压板具有承压面和接触面；所述抛光层具有抛光面，以及与所述压板接触面相粘结的非抛光面；所述抛光层包括从所述抛光层的抛光面延伸至所述压板承压面的中心通孔，与所述中心通孔同心并且通过十字通道连通的环形凹槽，从所述环形凹槽向所述抛光面边缘延伸的辐射凹槽；其中，在所述压板上具有与所述中心通孔连通的研磨浆料进口。本实用新型所述的化学机械抛光装置，可以用于光学玻璃或树脂镜片，半导体硅或二氧化硅基片，以及其它电子器件所采用的介质材料基片或金属基片的抛光处理，而且有利于减少抛光表面的划痕数量，且有利于抛光基片的转移。
申请人：安阳方圆研磨材料有限责任公司
地址：455000 河南省安阳市龙安区马投涧乡上毛仪涧村
国籍：CN
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